南大光电宣布好消息
南大光电的全称是江苏南大光电材料有限公司,专门生产在半导体行业中起着重要作用的MO源产品,并且是国内半导体材料行业的领导者。
最近,南大光电传来好消息:国内ArF光刻胶技术取得重大突破,可用于22 nm芯片,目前掌握了批量生产和批量销售的方法。
这个好消息一出,他们认识的人就非常兴奋,他们认为有了这一突破,家用芯片将进入一个新的水平。那些对此不太了解的人有点不清楚,光刻胶技术难吗?技术?
的确,光致抗蚀剂技术是半导体行业中的一项艰巨技术,但是光致抗蚀剂在芯片制造中起着不可或缺的重要作用!
众所周知,芯片制造需要一台光刻机,例如要制造高端芯片,就需要一台相应的高端光刻机,但是只有一台光刻机不起作用,光刻胶也可以。需要。
当然,光致抗蚀剂和光致抗蚀剂对于芯片的生产都是必需的,但是由于经常提及光致抗蚀剂并且关于光致抗蚀剂的讨论很少,所以许多人不知道光致抗蚀剂是否可用。
光刻胶是微电子技术中显微加工的关键材料,也是芯片制造的关键材料之一,因此光刻胶的国内突破也是芯片行业的突破,两者密不可分,毕竟是主要应用现在正在制造芯片的光刻胶。
实际上,国内芯片产业一直落后,这是因为我们在这方面起步较晚,长期以来一直受到国外技术障碍和人才垄断的影响,但现在国内半导体发展步入正轨,并正在逐步追赶或超过许多工业化国家甚至。
南大光电宣布的好消息不仅使国内半导体产业迈上了一个新台阶,也鼓舞了我们的科研人员,他们相信,有一天,只要他们努力工作,就能取得突破!
日本和美国出乎意料
如果说国内光刻胶技术的最大突破是使人们感到不快,那一定是日本和美国,因为这两个国家一直是光刻胶市场的垄断者,尤其是日本。当之无愧的光刻胶领导者。
在国内光阻剂突破之前,日本和美国占据了全球光阻剂市场的50%,在世界前五名最大的光阻剂公司中,前四位是日本,第五位是日本和美国。
但是,随着国产光刻胶的重大突破,情况将在未来发生变化,当然有必要发挥其价值,占领市场一定是其价值的最好体现。日本和美国显然不希望在我国这方面取得突破,但是现在后悔现在为时已晚!
在日本和美国的垄断下,我们仍然可以在光致抗蚀剂方面取得巨大的突破,这值得我们引以为傲,这也表明,本土研究人员的智慧并不比外国科学家的智慧差,而且国内技术也并不比外国科学家差。技术!
总结
随着时间的发展,国内半导体业务发展迅速,虽然发展道路并不平坦,但充满了考验,但如何才能看到风雨无阻的彩虹,又如何能没有困难地成功呢!
相信该国将在不久的将来继续取得突破,取得更好的成绩并为半导体业务的发展做出贡献,有一天我们将能够实现技术独立性和成为真正的技术力量!